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Intellectual Property知的財産に関する取り組み
信越化学は、材料・部材技術を中心に、エキシマレーザを始めとする装置技術、それらを使用したプロセスに関して様々な技術※を培ってきましたが、当社の力だけで新しいアプリケーションやプロセスを作り上げることは困難です。微小材料システム事業推進室は、ユーザー様を始めとするステークホルダーの皆様と信越化学の技術の橋渡し役として、マイクロLEDや半導体といった枠組みを超えた電子デバイス業界の新たな可能性に積極的に取り組み、皆様と一緒に未来に挑戦していきます。
※部材・材料、エキシマレーザ装置、プロセスを中心に微小材料システム事業推進室が関連するものだけで200件を超える登録済みの知的財産権（2025年4月1日現在）があります。当事業推進室の技術の取り組みを下記に紹介します。
知的財産一覧List of intellectual properties
マイクロLED移載・実装の代表IP群
独立したステージアーキテクチャー
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2021-0193-JP04、TW02（請求項1）、TW0意匠
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図のキャプション 請求項１
ドナー基板を保持するドナーステージ、光学系を保持する光学ステージ、及び、レセプター基板を保持するレセプターステージ を有するリフト装置であって、前記ドナーステージ及び前記光学ステージと、前記レセプターステージと、が独立の機構であるリフト装置。POINT！ドナーステージと光学ステージを、レセプターステージから独立させることで、振動を抑え、高精細な移載を実現。
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2021-0193-TW04（請求項1、11）、TW05特許
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2021-0193-TW04の紹介（当社翻訳）
請求項１
レーザ光のマスクパターンを基板の裏面から前記基板の表面に設けられた対象物に向けて縮小投影し、前記対象物を前記基板から剥離させ、当該対象物を他の基板にリフトするリフト方法。請求項１１
レーザ光のマスクパターンを基板の裏面から前記基板の表面に設けられた対象物に向けて縮小投影し、前記対象物を前記基板から剥離させ、当該対象物を他の基板にリフトするリフト方法に使用されるマスクであって、レーザ光を透過する窓部分と、レーザ光を遮断する有色部分を有するマスク。請求項１４
レーザ光のマスクパターンを基板の裏面から前記基板の表面に設けられた対象物に向けて縮小投影し、前記対象物を前記基板から剥離させ、当該対象物を他の基板にリフトするリフト方法に使用されるマスクであって、
クロムメッキが施されている有色部分及びクロムメッキが施されていない窓部分を有するマスク。
フォトマスクを利用した縮小投影光学系による移載
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2021-0194-JP06（二種以上の開口群）（請求項9）実用新案
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2021-0194-JP06の紹介
請求項９
照射対象物が設けられた基板に向けてレーザ光を照射し、前記照射対象物を前記基板から、他の基板へ移動させるリフト方法に用いられるフォトマスクであって、少なくとも二つの種類の開口群を有するフォトマスク。 -
2021-0193-TW04（請求項1、11）、TW05特許
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2021-0193-TW04の紹介（当社翻訳）
請求項１
レーザ光のマスクパターンを基板の裏面から前記基板の表面に設けられた対象物に向けて縮小投影し、前記対象物を前記基板から剥離させ、当該対象物を他の基板にリフトするリフト方法。請求項１１
レーザ光のマスクパターンを基板の裏面から前記基板の表面に設けられた対象物に向けて縮小投影し、前記対象物を前記基板から剥離させ、当該対象物を他の基板にリフトするリフト方法に使用されるマスクであって、レーザ光を透過する窓部分と、レーザ光を遮断する有色部分を有するマスク。請求項１４
レーザ光のマスクパターンを基板の裏面から前記基板の表面に設けられた対象物に向けて縮小投影し、前記対象物を前記基板から剥離させ、当該対象物を他の基板にリフトするリフト方法に使用されるマスクであって、
クロムメッキが施されている有色部分及びクロムメッキが施されていない窓部分を有するマスク。
